第11回スクリーニング学研究会は終了致しました。
多数のご参加ありがとうございました。

スフェロイド・オルガノイド形成のハイスループット化とハンドリング

 

要旨

スフェロイドのバルク形成とその利用に関して、新製品のCorning® Elplasia®製品を用いた事例をご紹介します。Elplasiaでのスフェロイド形成や取り扱いのヒントに関してもご覧いただきます。その他、今年の新製品であるCorning マトリゲル基底膜マトリックス 3Dプレートで細胞の cyst形成とアッセイを簡便に行う事例、オルガノイド形成を予めテスト済みのCorning マトリゲル基底膜マトリックス フェノールレッドフリーオルガノイド形成用のアプリケーションについてもご紹介いたします。